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等離子體蝕刻及其在大規(guī)模集成電路制造中的應用(第2版)

等離子體蝕刻及其在大規(guī)模集成電路制造中的應用(第2版)

定  價:149 元

叢書名:高端集成電路制造工藝叢書

        

  • 作者:張海洋 等
  • 出版時間:2023/1/1
  • ISBN:9787302614395
  • 出 版 社:清華大學出版社
  • 中圖法分類:TN405.98 
  • 頁碼:436
  • 紙張:
  • 版次:2
  • 開本:
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本書共10章,基于公開文獻全方位地介紹了低溫等離子體蝕刻技術在半導體產業(yè)中的應用及潛在發(fā)展方向。以低溫等離子體蝕刻技術發(fā)展史開篇,對傳統(tǒng)及已報道的先進等離子體蝕刻技術的基本原理做相應介紹,隨后是占據(jù)了本書近半篇幅的邏輯和存儲器產品中等離子體蝕刻工藝的深度解讀。此外,還詳述了邏輯產品可靠性及良率與蝕刻工藝的內在聯(lián)系,聚焦了特殊氣體及特殊材料在等離子體蝕刻方面的潛在應用。最后是先進過程控制技術在等離子體蝕刻應用方面的重要性及展望,以及虛擬制造在集成電路發(fā)展中的應用。 本書可以作為從事等離子體蝕刻工藝研究和應用的研究生和工程技術人員的參考書籍。
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