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晶體學、粉末X射線衍射與透射電子顯微學基礎

晶體學、粉末X射線衍射與透射電子顯微學基礎

定  價:80 元

        

  • 作者:潘昆明譯
  • 出版時間:2024/6/1
  • ISBN:9787502499723
  • 出 版 社:冶金工業(yè)出版社
  • 中圖法分類:O72 
  • 頁碼:331頁
  • 紙張:
  • 版次:1
  • 開本:26cm
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結構與性能之間的關系是材料科學與工程領域的關鍵話題之一。要理解為什么一種材料能夠展現出某種性能,首先是分析其晶體結構,揭示其結構特征。本書為讀者深入解釋了如何借助X射線衍射和透射電子顯微鏡進行晶體結構分析。本書主要內容如下:晶體學基礎;材料的X射線衍射,包括幾何原理、X射線衍射強度以及實驗方法;材料的透射電子顯微技術,包括原子散射因子、電子衍射和相位對比;討論HRTEM在材料研究領域的運用;XRD與TEM實操相關概念解釋。本書分三大部分全面詳細地介紹了晶體學、X射線衍射以及投射電子顯微學方面的重要概念、原理和相關運算,并結合作者豐富的教學經驗,輔以大量示例及幫助讀者更好地理解。同時,本書對應用物理學、化學工程等相關領域的交叉學科研究也同樣具有參考意義。
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