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目錄
第1章 幸福生活從美麗與微觀開始
001 展現(xiàn)繽紛色彩的顏料 用微小粉末描繪美麗世界 002
002 復(fù)制美麗——相片 彩色相片與數(shù)碼相機(jī) 004
003 薄膜技術(shù)使機(jī)器人不斷進(jìn)化 利用薄膜材料與計(jì)算機(jī)進(jìn)行精密制備 006
004 創(chuàng)造五種感官 視覺、聽覺、嗅覺、味覺與觸覺的創(chuàng)造 008
005 制造人工智能 010
006 我們身邊的電子產(chǎn)品都在使用薄膜 012
007 利用不分解的壓延技術(shù)，可以薄到什么程度 014
008 制造薄膜與制作精細(xì)圖案 016
COLUMN 真空的含義 018
第2章 制備薄膜的重要環(huán)境條件——真空
009 真空——壓強(qiáng)低于大氣壓的空間狀態(tài) 020
010 真空的單位與壓強(qiáng)的單位：帕斯卡（Pa） 022
011 抽出和吸附——真空泵的分類 024
012 真空的分析和測(cè)量 真空計(jì) 026
013 真空裝置的制造方法 028
COLUMN 質(zhì)量瞬移 030
第3章 薄膜的制備
014 薄膜的形成——先氣化，再固化沉積 032
015 四種氣化源 034
016 單層生長與形核長大 薄膜的生長① 036
017 薄膜內(nèi)部缺陷 薄膜的生長② 038
018 僅有薄膜還不夠 薄膜與基板的結(jié)合 040
019 目標(biāo)：單晶薄膜 042
COLUMN 出身和教育同樣重要 044
第4章 薄膜特有的性質(zhì)
020 薄膜的密度和厚度會(huì)隨時(shí)間減小 046
021 薄膜電阻的變化比體材料大 048
022 熱穩(wěn)定性降低 通過時(shí)效處理加以克服 050
COLUMN 薄膜和基板的連接 052
第5章 增強(qiáng)基板與薄膜結(jié)合的技術(shù)
023 制膜的基礎(chǔ)：平整的基板 054
024 前期處理：使基板表面完全裸露 056
025 前期處理的最后工序：干燥 058
026 制備附著強(qiáng)度更強(qiáng)的薄膜 060
027 改變氣化源、增加附著強(qiáng)度 062
028 薄膜與基板的相合性更為重要 064
029 著陸點(diǎn)：險(xiǎn)峻的山地 066
030 得到希望的薄膜組成 068
031 制造用于大面積集成電路的非晶薄膜 070
032 電遷移斷線及其解決方法 072
COLUMN 太陽之子——等離子體 074
第6章 等離子體在薄膜制備中的重要性
033 等離子體的神奇之處及其應(yīng)用 076
034 通過放電獲得等離子體 078
035 低氣壓（良好真空）下的磁控放電 080
036 產(chǎn)生薄膜用等離子體的五種方法 082
037 薄膜制備的難題——塵埃 084
COLUMN 望遠(yuǎn)鏡和照相機(jī)視場變亮的奧秘 086
第7章 從古代沿用至今的蒸鍍法
038 蒸發(fā)源 088
039 加工等厚膜的方法 090
040 離子鍍的使用 092
041 進(jìn)一步發(fā)揮離子的作用 094
042 防止蒸鍍材料與薄膜間的成分變化 激光沉積法 096
043 制作透明導(dǎo)電的薄膜 透明導(dǎo)電薄膜的蒸鍍方法 098
COLUMN 活學(xué)活用 100
第8章 大面積氣化源、適于批量生產(chǎn)的濺射法
044 濺射率是由離子能量和薄膜材料的種類決定的 102
045 濺射產(chǎn)生的原子遵循余弦法則且速度非常快 104
046 濺射的主要方式 106
047 以低電壓、定壓（高真空）為目標(biāo)的磁控濺射 108
048 支撐半導(dǎo)體IC高集成度發(fā)展的鋁合金濺射 110
049 利用反應(yīng)濺射制作高性能電阻膜 112
050 用濺射法制作氧化物高溫超導(dǎo)膜 114
051 低電壓下制造透明導(dǎo)電膜（氧化物）ITO 116
052 薄膜加工的過渡——從平面成膜到微孔成膜 118
053 利用離子進(jìn)行超微細(xì)孔的填埋 120
054 向高真空、無氬氣濺射的過渡 122
COLUMN 神奇的過程——從氣體到薄膜 124
第9章 由氣體制作薄膜的氣相沉積法
055 氣體向固體的轉(zhuǎn)變：薄膜的氣相沉積 126
056 很多的CVD方法已被實(shí)用化 128
057 CVD法制備IC中至關(guān)重要的硅系薄膜 130
058 高清彩色電視用的硅薄膜 132
059 高誘電率薄膜和低誘電率薄膜的制作 134
060 用氣相沉積法制備金屬導(dǎo)體薄膜 136
061 表面改性法制備氧化薄膜、氮化薄膜 138
COLUMN 從水（液體）中提取薄膜（固體） 140
第10章 在液體中制作鍍膜
062 鍍膜技術(shù)的發(fā)展 142
063 液相鍍膜和真空薄膜中的核生長 144
064 精密鍍膜在電氣領(lǐng)域的應(yīng)用 146
COLUMN 用世界上最小的刀進(jìn)行切削加工 148
第11章 將薄膜加工成電路、晶體管等的蝕刻技術(shù)
065 蝕刻法制備圖樣：在正確的位置加工正確的形狀 150
066 用氣體離子進(jìn)行蝕刻 152
067 最關(guān)鍵的一步——等離子體的制備 154
068 反應(yīng)氣體是重要的 156
069 決定蝕刻的條件 158
070 利用極細(xì)離子束進(jìn)行故障修理 160
071 利用CMP進(jìn)行平坦化處理 162
072 無CMP的平坦化技術(shù) 164
COLUMN 向偉大的夢(mèng)想前進(jìn)！ 166
第12章 薄膜發(fā)展的無限可能性
073 操控原子，制造未來儀器 168
074 薄膜——帶動(dòng)世界通信網(wǎng)絡(luò)發(fā)展 170
075 用微動(dòng)同步器挽救生命 172
076 生物計(jì)算機(jī)的使用 174
參考文獻(xiàn) 177
譯后記 180
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